ALD20 提供了客戶對世偉洛克超高純 ALD 閥所期望的可靠性和性能，同時還帶來了先前無法實現(xiàn)的溫度穩(wěn)定性和流量可能性。這款閥門使制造商能夠試驗不同的工藝和低蒸汽壓化學品，以實現(xiàn)當今和未來開發(fā)先進技術所需的均勻氣體沉積。

新型 ALD20 超高純閥專為突破原子層沉積閥技術的極限而設計，從而使流量達到使用現(xiàn)有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門使半導體芯片制造商不僅具有增加產(chǎn)量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著改變工藝的情況下做到這一點。

• ALD20 可以在與現(xiàn)有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無需改裝現(xiàn)有設備即可實現(xiàn)更高的性能

• 第二款標準 ALD20 閥類型具有稍大的占用空間寬度 (1.75 in.)，可產(chǎn)生更高的 1.7 流量系數(shù) — 這也是超高循環(huán)壽命超高純閥目前所能提供的最高流量

• 還可提供定制的流量系數(shù)

ALD20 的設計能夠在超高循環(huán)壽命中促進一致的操作性能得益于以下幾項主要特點：

• 整個閥門和執(zhí)行機構均可浸入 50°F (10°C) 至 392°F (200°C) 的氣箱中，從而無需在加熱期間隔離執(zhí)行機構。因此，低蒸汽壓氣體保持在有利于理想流量的溫度下，沉積一致性得以改善

• 316L VIM-VAR 不銹鋼或合金 22 閥體材料選項具有增強的耐腐蝕性，可承受腐蝕性日趨嚴重的介質

• 擁有 5 μin. Ra 表面處理的高度拋光型波紋管支持在超高循環(huán)壽命的工藝中進行清潔操作，以實現(xiàn)工藝完整性

• 氣動執(zhí)行機構可實現(xiàn)高速 (<10 ms) 且可重復的啟動，以實現(xiàn)精確而一致的流量，從而滿足計量要求。

規(guī)格